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美国 KRI 霍尔离子源 eH 3000

价格:面议浏览:200次联系:张婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企业:伯东贸易(深圳)有限公司留言店铺收藏

KRI 霍尔离子源 eH 3000产品描述

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.

尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6“

放电电压 / 电流: 50-300V / 20A

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

美国 KRI 霍尔离子源 eH 3000 产品特性:

伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性:

1.水冷 - 加速冷却

2.可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极

3.宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率

4.多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便

5.高效的等离子转换和稳定的功率控制

美国 KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数:

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:

离子源型号

 

霍尔离子源

eH3000
eH3000LO
eH3000MO

Cathode/Neutralizer

HC

电压

50-250V
50-300V
50-250V

电流

20A
10A
15A

散射角度

>45

可充气体Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

气体流量

5-100sccm

高度

6.0“

直径

9.7“

水冷

可选

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

美国 KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域:

伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域:

1. 溅镀和蒸发镀膜 PC

2. 辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD

3. 表面改性, 激活 SM

4. 直接沉积 DD

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