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Aston? 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制

价格:面议浏览:143次联系:张婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企业:伯东贸易(深圳)有限公司留言店铺收藏

Aston? 质谱仪通过数字分子分析推进半导体过程控制

先进半导体应用的原位过程控制
上海伯东日本 Atonarp Aston?  Impact 和 Aston? Plasma 是超紧凑型质谱仪, 适用于先进半导体工艺(如沉积和蚀刻)所需的定量气体分析.

Aston?质谱分析
分子测量
快速,灵敏度达到十亿分之一 检测残留气体 / 冷凝物污染.

Aston?质谱分析
提高产量
提供化学特定的可操作见解, 尽可能地提高产量

Aston?质谱分析
提高安全性
监测爆炸性气体. 检查排放和减排效果.


Aston? 质谱仪解决了关键的原位计量问题

? 提高吞吐量: 端点检测而不是基于时间的流程
? 提高产量: 以十亿分之一的灵敏度测量沉积和蚀刻工艺期间的工艺气体 / 副产物

Aston? 质谱仪先进工艺的优势
ppb 级灵敏度的高速采样
非常适合高纵横比的 3D 结构
耐腐蚀性气体
坚固紧凑
易于集成到工具平台中
沉积应用中:  实时过程气体监控,以驱动自动化工具调整以实现过程控制, 沉积步骤之间的终点检测, 实现层的化学计量工程
蚀刻应用中: 以 ppb 为单位测量的工艺气体和副产品, 启用端点腔室清洁

Atonarp  Aston? 技术参数

类型

Impact-300

Impact-300DP

Plasma-200

Plasma-200DP

Plasma-300

Plasma-300DP

型号

AST3007

AST3006

AST3005

AST3004

AST3003

AST3002

质量分离

四级杆

真空系统

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

分子泵

分子泵
隔膜泵

检测器

FC /SEM

质量范围

2-285

2-220

2-285

分辨率

0.8?0.2

检测限

0.1 PPM

工作温度

15-35“℃

功率

350 W

重量

15 kg

尺寸

299 x 218 x 331 LxWxH(mm)

400 x 240 x 325 LxWxH(mm)

 

Aston? 质谱仪半导体制造应用

先进的工艺
原子层沉积 (ALD)
化学气相沉积 (CVD)
原子层蚀刻 (ALE)

腔室管理
干净的终点检测
指纹识别和匹配
 

Sub-fab 安全性, 可持续性和节省优化
过程安全监控
干泵保护
减排管理

质谱分析仪

沉积
化学气相沉积

TEOS

蚀刻
介电,导电,金属
高纵横比 <1% 开放区域检测


EUV/光刻
SnH4 蚀刻
光掩模蚀刻

自主过程控制
模型驱动的实时过程监控


若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: 86-21-5046-1322                   T: 886-3-567-9508 ext 161
F: 86-21-5046-1490                        F: 886-3-567-0049
M: 86 152-0195-1076                     M: 886-939-653-958
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