【请登录】【免费注册】

首页新闻技术产品供应二手培训展会物流维修求购招商招标招聘企业

供应

搜索
产品信息产品筛选产品类型大全供应信息求购信息二手设备生产销售企业
您的位置:盘古机械网>供应信息>供应详情

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380 成功用于辅助蒸镀 TiO_2薄膜

价格:面议浏览:115次联系:张婷婷 / 15021001340 / 0755-25473928企业:伯东贸易(深圳)有限公司留言店铺收藏

氧化钛(TiO2)是一种具有多元晶格结构的光学镀膜材料, 氧化钛在550nm处的折射率可在2.2~2.7之间变化, 是一种很好的高折射率材料.  因此, 氧化钛(TiO2)是光学镀膜材料中最受欢迎的材料之一.

 

离子源助镀镀膜可改善膜层致密性、增加折射率、反射率, 提升产品性能指标.

 

某国内光学镀膜制造商为了制备 TiO2 薄膜并提升高反膜性能, 其采用离子源辅助蒸镀 TiO_2薄膜.

 

经过与伯东工程师讨论, 该制造商最终采用伯东 KRI 射频离子源 RFICP 380, 同时为了为镀膜工业提供稳定的合适的真空环境, 伯东工程师为制造商搭配大抽速分子泵组 Hicube 700 Pro, 采用金属密封, 极限真空度可达1x10-7hpa, 抽速可达 685 L/s, 很好保证成膜质量.

 

 

美国 KRI 射频离子源 RFICP 380 特性:

1. 大面积射频离子源

2. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求

3. 采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求

4. 离子束流: >1500 mA

5. 离子动能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自动控制器, 一键自动匹配

8. RF Generator 可根据工艺自行选择离子浓度, EX: 1kW or 2kW

9. 离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装

10. 栅极材质钼和石墨, 坚固耐用

11. 通入气体可选 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

 

运行结果:

与正常蒸镀工艺相比, 基片温度相同条件下, 使用 KRI 射频离子源 RFICP 380 辅助沉积工艺, 可以有效提高的 TiO2 薄膜折射率;离子束助镀工艺激光器峰值功率离散度最小, 且平均峰值功率普遍高于正常蒸镀工艺.

 

更多详细信息, 欢迎通过下方的联系方式与我们工程师交流》》》

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: 86-21-5046-1322                   T: 886-3-567-9508 ext 161
F: 86-21-5046-1490                        F: 886-3-567-0049
M: 86 152-0195-1076                     M: 886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

伯东版权所有, 翻拷必究!

此会员其它供应

业务咨询:932174181   媒体合作:2279387437    24小时服务热线:15136468001 盘古机械网 - 全面、科学的机械行业免费发布信息网站 Copyright 2017 PGJXO.COM 豫ICP备12019803号