最新供应共577条信息
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片2022-11-30
Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100 用于刻蚀薄膜磁盘2022-11-24
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于硬盘 GMR 磁头2022-11-24
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 用于蚀刻 FSD 车载 AI 芯片2022-11-24
Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL 3100 应用于集成电路制造中刻蚀2022-11-24
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 应用于碲镉汞晶体电学特性研究2022-11-24
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE 去除印刷电路板污染物2022-11-24
Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于芯片去层2022-11-24
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于光学器件精密加工2022-11-24
Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100用于蚀刻覆铜板2022-11-24
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-C 用于蚀刻 KDP 晶体2022-11-24
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于铁电薄膜研究2022-11-24
hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于芯片制造中厚铝刻蚀2022-11-24
hakuto 离子刻蚀机 10IBE 用于多晶黑硅损伤去除与钝化性能研究2022-11-17
hakuto 离子刻蚀机 20IBE 刻蚀滤波器钽酸锂晶片2022-11-17
hakuto 离子刻蚀机 10IBE 制作DNA芯片模板2022-11-17
hakuto 离子刻蚀机 10IBE 刻蚀衍射光学元件提高均匀度2022-11-17
hakuto 离子刻蚀机运用于 PDMS 软刻蚀用母模板研究2022-11-17
hakuto 离子刻蚀机 7.5IBE 用于氮化硅刻蚀工艺研究2022-11-17
Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 用于制作闪耀罗兰光栅2022-11-17
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷基片银薄膜减薄2022-11-17
Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于陶瓷板 Pt、Au、Cr 薄膜刻蚀2022-11-17
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射制备类金刚石 Ta-C 涂层2022-11-14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射沉积 Cu-W 膜2022-11-14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜2022-11-14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 用于溅射沉积硅片金属薄膜2022-11-14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于复合磁控溅射沉积装置2022-11-14
KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积红外器件介质膜2022-11-14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 NSN70 隔热膜2022-11-14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积制备碳薄膜2022-11-14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积 BCx 薄膜2022-11-14
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积纳米纯 Ti 薄膜2022-11-09
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 镀制气体传感器 WO3 薄膜2022-11-09
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 MoN 薄膜2022-11-09
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于多靶磁控溅射镀膜机2022-11-09
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积钛金属薄膜2022-11-09
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 镀制红外器件 ZnS 薄膜2022-11-09
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积半导体 IGZO 薄膜2022-11-07
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 ZnNi 合金薄膜2022-11-07
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 制备 IFBA 芯块 ZrB2 涂层2022-11-07
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 制备 NGZO 薄膜2022-11-07
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备富硅SiNx薄膜2022-11-07
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射多层沉积 Nb3Sn 超导薄膜2022-11-07
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 溅射沉积 NSN70 隔热膜2022-11-07
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射 WS2 薄膜2022-11-07
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 制备 YIG 薄膜2022-11-07
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射沉积铝锰合金薄膜2022-10-27
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 辅助溅射沉积 MnZn 铁氧体薄膜2022-10-27
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助磁控溅射制 TiSiN-Ag 薄2022-10-27
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220 溅射沉积 Ir 膜2022-10-27